Leiterplatten ABC - Leiterplatten Begriffe C
CAF - Anodisch leitfähige Fasern
Migration von Kupfer entlang der Glasfaserstränge des Basismaterials. Diese wird durch hohe Luftfeuchte / Temperatur und der Spannung begünstigt. Diese kann verhindert werden, wenn die Glasfasern komplett von dem umgebenden Epoxidharz benetzt / umschlossen werden.
CAM / CAD - Layout Vorlagenerstellung
Der Prozess der Umsetzung eines Schaltbildes in eine präzise, reproduzierbare Vorlage für die Produktionsherstellung. Die Vorlagen können entweder manuell und mit Hilfe der Photographie, sowie durch den Einsatz von Computern (CAM / CAD - Layoutprogrammen) erstellt werden.
Capped Via bei Leiterplatten
beidseitiges übermetallisieren von vias bei Leiterplatten (Plugging, gedeckelt, Via Filling Overplated)
Carbondruck
Abriebfeste und langlebige Karbonschicht ist besonders geeignet für Tastaturen.
Carbonlack
Der Carbonlack ist eine feinkörnige Grafitpaste, die die Leitfähigkeit von beispielsweise Tastaturkontaktflächen verbessert. Dieser wird meistens im Siebdruckverfahren aufgebracht.
CEM1 Leiterplatten Material
CEM 1 Material ist ein Leiterplattenbasismaterial auf Hartpapierbasis. Es ist relativ günstig und lässt sich gut stanzen. FR4 hat sich als Standard Material durchgesetzt und wird in weit größeren Mengen als CEM1 verwendet. Viele Hersteller nutzen daher CEM 1 Material kaum noch.
Chip On Board (COB)
Die Technik, bei der ein Mikrochip (ohne Gehäuse) direkt auf die Leiterplatte mittels Drahtbonden verbunden wird.
Chemische Vergoldung
Werkstoffe und Schichtdicken:
- Nickel 3 – 6 μm, Phosphorgehalt 7 – 10%
- Gold > 0,05 μm, Reinheit 99,9%
Chemische Vorbehandlung oder auch Mikroätzen genannt
Mikroätzen bewirkt eine Desoxidation der Kupferoberfläche und ein Anätzen der Korngrenze; hierdurch wird eine matte Oberfläche erzeugt, die die störende Reflexion der UV Strahlung praktisch beseitigt. Gleichzeitig werden je nach Art, Konzentration und Verweilzeit einige Mikrometer Kupfer abgetragen. Der Abtrag ist nicht immer gleichmäßig und kann durchaus zwischen 2 μm und 5 μm liegen. Die Folgen bei notwendiger Nacharbeit können entweder Durchkontaktierfehler oder bei den Innenlagen die Unterschreitung einer minimalen Kupferstärke sein. Dies ist besonders kritisch, da beim Braun- oder Schwarzoxidieren ein nochmaliger Kupferabtrag bei der Vorreinigung und eine Kupferumwandlung in Oxid stattfindet, so dass der fertige Innenlagenfehler bei Multilayern aufweisen kann, obwohl die geätzte Innenlage die elektrische und die optische Prüfung bestanden hat. Beim Anätzen mit Persulfaten sollte die erste nachfolgende Spülung mit H2SO4 angesäuert sein, um ein Ausfallen der Persulfate auf der Kupferoberfläche zu verhindern (Salzkristalle auf dem Kupfer). Aus abwassertechnischen Gründen (Komplexbildung) sind Natrium- oder Kaliumpersulfate dem Amoniumpersulfat vorzuziehen.
Chlorid - Eisen(III) Chlorid-Lösung
Beim Ätzen läuft eine sogenannte Redox-Reaktion ab. Dabei kommt es einerseits zu einer Oxidation: Cu - 2 Elektronen --> Cu2+ und einer Reduktion: 2Fe3+ + 2 Elektronen --> 2 Fe2+. Cu2+Ionen lösen sich in Wasser bzw. in einer sauren Lösung. Es bilden sich keine CuCl2-Salze, solange die Lösung nicht zu stark an Wasser/Säure verliert. Durch Verdunsten bzw. beim Alkalisieren der Lösung können Sie aber die Cu2+Ionen ausfällen.
Circuit Board
Schaltkreis Platte / Leiterplatte
CNC-Techniken auch Computer Numeric Control genannt
Bohren, Fräsen, Ritzen,
Spezialtechnik: gestufte Durchkontaktierung
COB auch Chip on Board genannt
Chip on Board ist eine Technologie die seit Jahrzehnten im Einsatz ist. Das Drahtbonden gliedert sich in unterschiedliche Anwendungsfälle, die dann mit den angepassten Materialen ausgeführt werden.
Die Trägermaterialen bestehen aus Leiterplatten (FR4, FR2), Keramik; Glas; Flexprint oder Lead Frame. Für die verschiedenen Anwendungen stehen auch Drähte die in unterschiedlichen Stärken als Dünndraht (12,5μm - 50μm) oder Dickdraht (ab 75μm - 500μm), wie auch in unterschiedlichen Materialen (Au, Al/Si, Al, Cu, Pd) am Markt Anwendung finden. Zudem werden für spezielle Produkte auch Bondfolien (Bändchen) eingesetzt.
Componentside
Bauteilseite / Toplayer / Bestückungsseite
Conductor
Leiter genannt
Conformal Mask System
Vor dem Laserbohren werden die Microvia Öffnungen in der Kupferkaschierung des Basismaterials durch die Fotolithografie und Ätzen vorstrukturiert. Durch diese Öffnungen erfolgt das Laserbohren des Dielektrikums.
Counter Sink
Senkung, oder auch konische Bohrung zur Versenkung von Kegelschrauben oder metallisiert als Reflektoren
CTI-Werte (Cross-Tracking-Index)
Werte für Kriechstromfestigkeit, Kriechwegbildung nach DIN/IEC 112 bzw. VDE 0303/1.
Cu-Kaschierung
CMOS Schaltungen
Ein Großteil der heutigen integrierten Schaltungen wird in CMOS-Technologie1 gefertigt. Als wesentlichen Vorteil gegenüber der Bipolar Technologie erzeugt eine Digitalschaltung in CMOSTechnologie im stationären Zustand (kein Signalwechsel) nahezu keine Verlustleistung. Diese Eigenschaft von CMOS-Schaltungen kommt vor allem bei den heutigen komplexen Digitalschaltungen zu tragen, wenn man bedenkt, dass der Anteil der Digitalschaltungen gegenüber den Analogschaltungen dominiert.
CTE auch Coefficient of thermal Expansion genannt
Ist ein thermischer Ausdehungskoeffizient, in ppm/K
CTI auch Conductive Tracking Index genannt
Ist der Wert für die Kriechstromfestigkeit von Materialien, gemessen in Volt
CVD auch Chemical Vapour Deposition genannt
Eine Dünnschichttechnologie / Sputtern